| 发明名称 | 含空间位阻基团的超支化聚芴材料及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明属于有机光电功能材料技术领域，具体为一类含空间位阻基团的超支化聚芴材料及其制备方法。该类材料是在超支化聚芴结构基础上，引入高位阻的基团，使得聚合物分子链高度扭曲，有效地抑制分子间聚集，避免形成激基缔合物而带来的荧光猝灭，从而提高材料的发光效率。该类材料作为具有高的氧、热、光稳定性的有机发光材料，可广泛用于有机/聚合物电致发光、光伏电池、有机场效应管和激光等有机电子领域。 | ||
| 申请公布号 | CN101245131A | 申请公布日期 | 2008.08.20 |
| 申请号 | CN200810034029.6 | 申请日期 | 2008.02.28 |
| 申请人 | 复旦大学 | 发明人 | 韦玮;覃春杨;王洪宇;鲁家豹;林建明;汤多峰 |
| 分类号 | C08G61/00(2006.01);C09K11/06(2006.01);H05B33/14(2006.01);H01L51/00(2006.01);H01L51/30(2006.01);H01L51/46(2006.01);H01L51/54(2006.01) | 主分类号 | C08G61/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人 | 陆飞;盛志范 |
| 主权项 | 1.一类含空间位阻基团的超支化聚芴材料，其特征在于具有如下结构：<img file="S2008100340296C00011.GIF" wi="1617" he="1442" />式中：Ar1是超支化聚合物的支化核，为以下基团中的一种：<img file="S2008100340296C00012.GIF" wi="741" he="443" />Ar2与芴基团是超支化聚合物的支化臂，Ar2为以下基团中的一种：<img file="S2008100340296C00013.GIF" wi="767" he="398" />其中*为结构单元之间的连接点。 | ||
| 地址 | 200433上海市邯郸路220号 | ||