发明名称 |
用于在容器内部进行等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)内阻挡层的装置,所述装置包括被电磁阀隔离的气路 |
摘要 |
一种通过等离子体增强型化学气相沉积,用于在容器(2)的内壁上沉积有阻挡作用的材料的薄层的装置(1),所述装置(1)包括:处理单元(4),其容纳容器(2)和装有电磁波生成器(11);前驱气体入口(17);注入器(13),用于将所述前驱气体注入到容器(2)中,所述注入器(13)具有向外打开到容器(2)中的底端(14)和对应的顶端(15);前驱气体供料管(20),其使前驱气体入口(17)进入到与注入器(13)的顶端(15)相连的流体流动中;和电磁阀(25),其插入到前驱气体出口(17)和注入器(13)之间的供料管(20)中,其紧挨着注入器(13)顶端(15)的上游。 |
申请公布号 |
CN101248211A |
申请公布日期 |
2008.08.20 |
申请号 |
CN200680027317.8 |
申请日期 |
2006.07.24 |
申请人 |
西得乐公司 |
发明人 |
让-米歇尔·鲁斯 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01);C23C16/511(2006.01);B05D7/22(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01) |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 |
代理人 |
徐金国;梁挥 |
主权项 |
1、一种通过等离子体增强型化学气相沉积(PECVD),用于在容器(2)的内壁上沉积有阻挡作用的材料的薄层的装置(1),所述装置(1)包括:·处理单元(4),其容纳容器(2)和装备有用于从前驱气体中活化等离子体的电磁波生成器(11);·前驱气体入口(17);·注入器(13),用于将所述前驱气体注入到容器(2)中,所述注入器(13)具有向外打开到容器(2)中的底端(14)和对应的顶端(15);和·前驱气体供料管(20),其使前驱气体入口(17)进入到与注入器(13)的顶端(15)相连的流体流动中;所述装置(1)的特征在于,其进一步包括:·电磁阀(25),其插入到前驱气体出口(17)和注入器(13)之间的供料管(20)中,其紧挨着注入器(13)顶端(15)的上游,所述电磁阀(25)具有一个使得前驱气体通过供料管(20)到容器(13)的打开构型,和一个阻止前驱气体通过的闭合构型;和压力调节流量计(22),其插入到供料管(20)和前驱气体出口(17)之间,所述压力调节流量计(22)被设置成与电磁阀(25)同步操作以便当电磁阀(25)处于其打开的构型时,所述阀使得前驱气体通过调节流量计(22)从供料管(20)通过而到达注入器(13),和当所述电磁阀处于其闭合构型时,所述阀阻止前驱气体流过。 |
地址 |
法国奥科特维尔 |