| 摘要 |
一种微影装置包括一经组态以调整一辐射光束之照明系统、一用于一图案化元件之支撑件、一用于一基板之基板台、一投影系统及一控制系统。该图案化元件能够在该辐射光束之横截面中赋予该辐射光束一图案以形成一经图案化之辐射光束。该投影系统经组态以沿一扫描路径将该经图案化之辐射光束作为一影像投影至该基板之一目标部分上。该扫描路径由该微影装置之一曝光场之一扫描方向上之一轨道界定。该控制系统耦合至该支撑件、该基板台及该投影系统以用于分别控制该支撑件、该基板台及该投影系统之行动。该控制系统经组态以藉由临时调节在一区域中之该影像而校正在该区域中沿该扫描路径之该影像的一局部变形。 |
