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发明名称
形成非挥发性记忆体装置的方法
摘要
一种形成非挥发性记忆体装置的方法,其包括形成第一罩幕图案,其间具有较大的距离。形成顺应性地覆盖第一罩幕图案的距离调节层。第二罩幕图案形成于第一罩幕图案之间的距离调节层上的沟槽内。
申请公布号
TW200832623
申请公布日期
2008.08.01
申请号
TW096150334
申请日期
2007.12.26
申请人
三星电子股份有限公司
发明人
沈载煌;任庸植;金奇南;朴载宽
分类号
H01L21/8247(2006.01)
主分类号
H01L21/8247(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
韩国
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