散射仪、测量设备和聚焦分析方法

摘要

本发明公开了一种散射仪、一种测量设备以及一种聚焦分析方法，其中为了检测衬底是否位于散射仪的焦平面上，在预定值之上的所述辐射的横截面面积在散射仪的光学系统的后焦面之前和之后都被检测。在后焦面之前和之后的检测位置应当优选地为从后焦面沿着反射的辐射是等距的，以使得简单的比较将确定是否衬底位于散射仪的焦平面上。

主权项

1.一种用于测量衬底属性的散射仪，包括：辐射投影器，其被构造用于投影辐射；高数值孔径的透镜，其被构造用于将所述辐射投影到所述衬底上；第一检测器，其被构造用于检测其强度在第一预定值之上的被反射的所述辐射的横截面面积；以及 第二检测器，其被构造用于检测其强度在第二预定值之上的被反射的所述辐射的横截面面积， 其中，所述高数值孔径的透镜将从所述衬底反射的辐射朝向所述高数值孔径的透镜的后焦面或前焦面的共轭位置投影，而所述检测器被设置，以使得所述第一检测器被设置在所述高数值孔径的透镜的所述后焦面之前、所述高数值孔径的透镜和所述高数值孔径的透镜的后焦面之间，而所述第二检测器被设置在所述高数值孔径的透镜的所述后焦面之后，或者设置所述检测器，以使得所述第一检测器被设置在所述高数值孔径的透镜的前焦面的共轭位置之前、所述高数值孔径的透镜和所述高数值孔径的透镜的前焦面的共轭位置之间，而所述第二检测器被设置在所述高数值孔径的透镜的前焦面的共轭位置之后。