发明名称 |
正性光致抗蚀剂和形成光致抗蚀剂的方法 |
摘要 |
一种包含碱溶性酚醛清漆树脂(A)和光敏剂(B)的正性光致抗蚀剂组合物,所述碱溶性酚醛清漆树脂(A)含有下列通式(I)表示的结构单元(a1)和下列通式(II)表示的结构单元(a2)。 |
申请公布号 |
CN100404573C |
申请公布日期 |
2008.07.23 |
申请号 |
CN200480020267.1 |
申请日期 |
2004.07.15 |
申请人 |
东京应化工业株式会社 |
发明人 |
增田靖男;奥井俊树 |
分类号 |
C08G8/00(2006.01);C08G14/00(2006.01);G03F7/023(2006.01) |
主分类号 |
C08G8/00(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
陈长会 |
主权项 |
1.一种包含碱溶性酚醛清漆树脂(A)和光敏剂(B)的正性光致抗蚀剂组合物,所述碱溶性酚醛清漆树脂(A)含有下列通式(I)表示的结构单元(a1)和下列通式(II)表示的结构单元(a2):<img file="C2004800202670002C1.GIF" wi="907" he="495" />其中,R<sup>1</sup>表示1~5个碳原子的亚烷基,R<sup>2</sup>表示氢原子、羟基、或具有1~4个碳原子的烷基,m表示1~3的整数;<img file="C2004800202670002C2.GIF" wi="942" he="474" />其中,R<sup>3</sup>表示氢原子、羟基、或具有1~4个碳原子的烷基,n表示1~3的整数,其中在所述树脂中结构单元(a1)和结构单元(a2)之间的摩尔比在1∶99~80∶20的范围内。 |
地址 |
日本神奈川县 |