发明名称 画素结构及其制造方法
摘要 本发明是关于一种画素结构及其制造方法,该画素结构适于配置在一基板上。该画素结构主要是由一扫描配线、一数据配线、一主动组件、一电容电极、一画素电极与一电场遮蔽层构成。该画素结构的制造方法,主要是在基板上先形成主动组件、扫描配线与数据配线,主动组件是电性连接至扫描配线与数据配线。此外,在基板上形成电容电极与电场遮蔽层,电场遮蔽层覆盖数据配线。最后,在基板上形成画素电极,覆盖电容电极且电性连接至主动组件。其中,画素电极与电容电极是电性耦合为一画素储存电容。电场遮蔽层可避免数据配线与画素电极之间发生串音现象。
申请公布号 CN100399168C 申请公布日期 2008.07.02
申请号 CN200310121501.7 申请日期 2003.12.16
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 杨健生
分类号 G02F1/136(2006.01);G02F1/01(2006.01);H01L29/786(2006.01) 主分类号 G02F1/136(2006.01)
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人 寿宁;张华辉
主权项 1.一种画素结构,适于配置在一基板上,其特征在于该画素结构至少包括:一扫描配线,配置于该基板上;一数据配线,配置于该基板上;一主动组件,邻近配置于该扫描配线与该数据配线交会处的该基板上,且该主动组件是电性连接至该扫描配线与该数据配线;一电容电极,配置于该基板上;一画素电极,配置于该电容电极上方且电性连接至该主动组件,其中该画素电极与该电容电极是电性耦合为一画素储存电容;以及一电场遮蔽层,配置于该数据配线与该画素电极之间,该电场遮蔽层位在该数据配线上方。
地址 中国台湾