发明名称 |
液晶显示装置制造方法以及在此方法中使用的掩模 |
摘要 |
一种液晶显示装置制造方法以及在此方法中使用的掩模。该方法通过调节涂覆于基板上各区域光刻胶的受光方式并对显影之后的光刻胶进行处理,以达到利用一张掩模版完成刻蚀接触孔以及减薄或去除端子部接触孔周边区域,导电层间导通接触孔周边区域及非必要保留区域的光刻胶厚度之目的。 |
申请公布号 |
CN101211118A |
申请公布日期 |
2008.07.02 |
申请号 |
CN200610147880.0 |
申请日期 |
2006.12.25 |
申请人 |
上海广电NEC液晶显示器有限公司 |
发明人 |
秦锋;丁渊 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G02F1/1333(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F1/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 |
代理人 |
王茂华 |
主权项 |
1.一种液晶显示装置制造方法,以有机感光树脂为光刻胶,使用掩模对所述有机感光树脂进行光刻,并且保留特定区域的光刻胶作为绝缘层,其特征在于,所述方法包括以下步骤:a.在一次曝光中利用所述掩模将所述有机感光树脂的受光量分成三个或三个以上等级,在有机感光树脂上同时地形成具有三个或三个以上曝光程度的多个区域。 |
地址 |
201108上海市闵行区华宁路3388号 |