| 摘要 |
目的:在高感度、高解析度的化学放大型正型感放射线性树脂组成物中,可于疏图案和密图案杂混之电路图案,减少光阻剂疏密图案的解析线幅差异。解决手段:在由酸解离性保护基加以保护的硷不溶性或硷难溶性树脂,和藉放射线照射可发生酸的化合物,所构成之化学放大型正型感放射线性树脂组成物中,以酸解离性保护基加以保护之硷不溶性或硷难溶性树脂,系使用为了将该酸解离性保护基加以解离,其活化能(E)在25仟卡/莫耳以上之树脂,且藉放射线照射可发生酸的化合物,系使用藉放射线照射可发生羧酸的化合物和藉放射线照射可发生磺酸的化合物之混合物。 |
| 主权项 |
1.一种化学放大型正型感放射线性之树脂组成物, 其特征为包括(A)以酸解离性保护基加以保护之硷 不溶性或硷难溶性树脂,在该酸解离性保护基解离 时成为硷溶性,解离所需活化能(E)在25仟卡/莫耳 以上之树脂,(B)藉放射线照射发生羧酸之化合物, 以及(C)藉放射线照射发生磺酸之化合物者,其中以 酸解离性保护基加以保护之硷不溶性或硷难溶性 树脂,在该酸解离性保护基解离时成可溶性,解离 所需活化能(E)在25仟卡/莫耳以上之树脂,包含三 级丁氧基羰基苯乙烯、三级丁氧基苯乙烯或三级 丁基(甲基)丙烯酸酯之单位,且藉放射线照射发生 羧酸之化合物,相对于藉放射线照射发生磺酸之化 合物的含量为1.0-100莫耳%。 2.如申请专利范围第1项之化学放大型正型感放射 线性树脂组成物,其中在设计线幅0.18微米之接触 孔中,以扫描型电子显微镜进行最适曝光量时疏、 密图案之长度测量,其差异CD为20奈米以下者。 |
