发明名称 Beschichtungssysteme mit Schichten auf Rhodiumaluminid-Grundlage
摘要 <p>Ein Beschichtungs-Verfahren und System, geeignet zur Anwendung auf Komponenten, die hohen Temperaturen ausgesetzt sind. Das Beschichtungssystem (20) schließt eine Deckschicht (24, 32) ein, die vorwiegend eine intermetallische B2-Phasen-Rhodiumaluminid (RhAl)-Verbindung ist, die etwa 25 bis 90 Atom-% Rhodium, etwa 10 bis etwa 60 Atom-% Aluminium, wahlweise bis zu einer kombinierten Gesamtmenge von etwa 25 Atom-% eines oder mehrerer Platingruppenmetalle, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Platin, Palladium, Ruthenium und Iridium, und bis zu etwa 20 Atom-% des Grundmetalls und Legierungs-Bestandteile des Substrates (22) enthält. Die intermetallische RhAl-Schicht (24, 32) kann als eine Umweltbeschichtung (24), eine Diffusions-Sperrschicht (32) für eine darüber liegende Umweltbeschichtung (24) oder beides, mit oder ohne eine äußere Keramikschicht 26), dienen.</p>
申请公布号 DE102007056315(A1) 申请公布日期 2008.06.12
申请号 DE20071056315 申请日期 2007.11.22
申请人 GENERAL ELECTRIC CO. 发明人 JIANG, LIANG;GORMAN, MARK D.;GIGLIOTTI JUN., MICHAEL FRANCIS XAVIER;DAROLIA, RAMGOPAL
分类号 C23C30/00;F01D5/28 主分类号 C23C30/00
代理机构 代理人
主权项
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