| 发明名称 | 用于附着基板的设备及其间隙控制单元 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于附着基板的设备，该设备包括用于支撑第一基板的第一腔室以及用于支撑第二基板的第二腔室。主密封件设置于第一腔室与第二腔室之间以保持腔室之间的密封和间隙。对准控制部设置于第一腔室与第二腔室之间以便保持密封，并且还使第二腔室相对于第一腔室移动以对准基板。该对准控制部还可控制腔室之间的间隙，从而保持基板之间的均匀间隙。 | ||
| 申请公布号 | CN101197252A | 申请公布日期 | 2008.06.11 |
| 申请号 | CN200710182035.1 | 申请日期 | 2007.10.24 |
| 申请人 | 爱德牌工程有限公司 | 发明人 | 崔凤焕;沈锡希 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/50(2006.01);H01L21/68(2006.01);G02F1/1333(2006.01);H01J9/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 章社杲;吴贵明 |
| 主权项 | 1.一种用于附着基板的设备，所述设备包括：主框架；第一腔室，安装于所述主框架上，所述第一腔室可保持第一基板；第二腔室，安装于所述主框架上，所述第二腔室可保持第二基板，其中，所述第一腔室和所述第二腔室可以合在一起以形成密封附着空间；主密封件，位于所述第一腔室与所述第二腔室之间，其中，所述主密封件可保持所述密封附着空间的密封；以及对准控制装置，位于所述第一腔室与所述第二腔室之间，其中，所述对准控制装置也保持所述密封附着空间的密封，并且其中，所述对准控制装置允许所述第一腔室和所述第二腔室中的至少一个腔室相对于所述第一腔室和所述第二腔室中的另一个腔室移动，从而可以在仍然保持所述密封附着空间的密封的同时将所述基板对准。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||