发明名称 含氧杂环丁烷的化合物、光致抗蚀剂组合物、制备图案的方法、以及喷墨打印头
摘要 本发明披露了含氧杂环丁烷的化合物,包括该化合物的光致抗蚀剂组合物,使用该光致抗蚀剂组合物制备图案的方法,以及喷墨打印头,该喷墨打印头包括所述含氧杂环丁烷的化合物的聚合产物。
申请公布号 CN101190903A 申请公布日期 2008.06.04
申请号 CN200710126352.1 申请日期 2007.06.29
申请人 三星电子株式会社;韩国科学技术院 发明人 金奎植;金镇伯;河龙雄;朴炳夏;朴志英;金秀玟
分类号 C07D305/06(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/00(2006.01) 主分类号 C07D305/06(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 吴培善
主权项 1.由式1、式2中至少一种表示的含氧杂环丁烷的化合物,以及它们的混合物:式1                                                  式2<img file="A2007101263520002C1.GIF" wi="1714" he="607" />其中:Q<sub>1</sub>、Q<sub>2</sub>、Q<sub>3</sub>、Q<sub>4</sub>、Q<sub>5</sub>、Q<sub>6</sub>、Q<sub>7</sub>和Q<sub>8</sub>各自独立地为以下基团之一:氢原子、羟基、羧基、取代或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>30</sub>烷基、取代或未取代的C<sub>2</sub>-C<sub>30</sub>链烯基、取代或未取代的C<sub>2</sub>-C<sub>30</sub>炔基、取代或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>30</sub>烷氧基、取代或未取代的C<sub>4</sub>-C<sub>30</sub>脂族烃环、取代或未取代的C<sub>6</sub>-C<sub>30</sub>芳基、取代或未取代的C<sub>2</sub>-C<sub>30</sub>杂芳基、取代或未取代的C<sub>6</sub>-C<sub>30</sub>芳氧基、取代或未取代的C<sub>6</sub>-C<sub>30</sub>酰基、以及取代或未取代的含醚键的单价基团,Q<sub>1</sub>、Q<sub>2</sub>、Q<sub>3</sub>、Q<sub>4</sub>、Q<sub>5</sub>、Q<sub>6</sub>、Q<sub>7</sub>和Q<sub>8</sub>彼此相同或不同,在Q<sub>1</sub>和Q<sub>2</sub>中的至少一种中的至少一个氢原子,以及在Q<sub>3</sub>、Q<sub>4</sub>、Q<sub>5</sub>、Q<sub>6</sub>、Q<sub>7</sub>和Q<sub>8</sub>中的至少一种中的至少一个氢原子被氧杂环丁基取代,a为1、2、3或4,b为1、2、3、4或5,c和e各自独立地为1、2或3,d为1或2,f、g和h各自独立地为1、2、3或4,L<sub>1</sub>、L<sub>2</sub>和L<sub>3</sub>各自独立地为以下基团之一:取代或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>30</sub>亚烷基、取代或未取代的C<sub>2</sub>-C<sub>30</sub>亚链烯基、取代或未取代的C<sub>2</sub>-C<sub>30</sub>亚炔基、取代或未取代的C<sub>6</sub>-C<sub>30</sub>亚芳基、取代或未取代的C<sub>3</sub>-C<sub>30</sub>杂亚芳基、以及取代或未取代的含醚键的二价基团,以及n为0或1~10的整数。
地址 韩国京畿道