| 摘要 |
本发明之基板处理装置包含有:板,隔着间隔被对向配置于基板之一面,在与上述一面对向之对向面形成有多个吐出口及吸引口;清洗液供给单元,用来将含纯水之清洗液供给到上述板之上述吐出口;吸引单元,用来对上述板之上述吸引口内作吸引;乾燥促进流体供给单元,用来将促进上述基板之乾燥用之乾燥促进流体供给到上述一面;基板保持单元,被配置在上述一面之相反侧的基板之另一面侧,用来保持上述基板;及供给控制单元,用来控制上述清洗液供给单元,从上述吐出口朝向上述一面吐出清洗液,使上述一面与对向面之间由于清洗液而成液密,同时控制上述乾燥促进流体供给单元,在上述一面和对向面之间成为液密之状态下,对上述一面供给乾燥促进流体,将上述一面和对向面之间之清洗液置换成为乾燥促进流体。 |
