发明名称 |
用于原子力显微镜纳米定位的超薄切片表面处理方法 |
摘要 |
本发明公开一种用于原子力显微镜纳米定位的超薄切片表面处理方法,属于生物工程技术领域。将超薄切片完全浸入无水乙醇处理,再转入20%双氧水处理,其间将溶液轻轻摇晃几次,然后转入50%乙醇清洗,最后将切片转入无水乙醇处理,取出晾干即成。本发明简单易行,操作简便,效果明显,可广泛用于各种超薄切片的表面处理,能很好地增强在原子力显微镜观察时图像的反差,用于纳米尺度的定位。 |
申请公布号 |
CN101187605A |
申请公布日期 |
2008.05.28 |
申请号 |
CN200710172592.5 |
申请日期 |
2007.12.20 |
申请人 |
上海交通大学 |
发明人 |
李鑫辉;孙洁林;张晓东;季彤;胡钧;张波 |
分类号 |
G01N1/28(2006.01);G01N13/16(2006.01) |
主分类号 |
G01N1/28(2006.01) |
代理机构 |
上海交达专利事务所 |
代理人 |
王锡麟;王桂忠 |
主权项 |
1.一种用于原子力显微镜纳米定位的超薄切片表面处理方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步,将切片完全浸入无水乙醇处理;第二步,将第一步得到的切片转入双氧水处理;第三步,将第二步得到的切片转入乙醇清洗;第四步,将第三步得到的切片转入无水乙醇处理,取出晾干即成。 |
地址 |
200240上海市闵行区东川路800号 |