| 主权项 |
1.一种光学用树脂组成物,其特征为由碳酸酯残基 、以下述构造式(1)表示之膦酸残基、及以下述构 造式(2)表示之2价酚残基所构成,膦酸残基与碳酸 酯残基之莫耳比例满足通式(3); 1>(a)/{(a)+(b)}≧0.5 (3) [结构式(1)中,R1表示碳数1以上10以下之可含有氧、 氮、硫、卤素之有机基,X1表示氧、硫或硒,树脂组 成物中亦可包含2种以上之R1或X1不同之膦酸残基; 构造式(2)中,R2系个别独立地选自包含氢原子、卤 素原子、碳氢基、硝基之群组,p、q系p+q=0~8之整数 ,碳氢基系选自包含1~20碳数之脂肪族基、芳香族 基之群组;Y1系选自氧原子、硫原子、碳数4以上15 以下之伸烷基、次烷基、环伸烷基、环次烷基、 经卤素取代之伸烷基、经卤素取代之次烷基、及 苯基次烷基,以及,羧基、基、脂肪族氧化膦基 、芳香族氧化膦基、烷基矽烷基、二烷基矽烷基 、茀之群组;树脂组成物中亦可包含2种以上之R2或 Y1不同之2价酚残基;树脂组成物中亦可含有2种以 上之2价酚残基之情况,其中一个如构造式(2)中之Y1 ,其为碳数3以下之次烷基可具有2价酚残基;通式(3) 中,(a)系表示膦酸残基之莫耳数、(b)系表示碳酸酯 残基之莫耳数]。 2.一种光学用树脂组成物,其特征为由以下述构造 式(4)表示之膦酸残基、及以下述构造式(5)表示之2 价酚残基所构成, [结构式(4)中,R3表示碳数1以上10以下之可含有氧、 氮、硫、卤素之有机基,X2表示硫或硒,树脂组成物 中亦可包含2种以上之R3或X2不同之膦酸残基;构造 式(5)中,R4系个别独立地选自包含氢原子、卤素原 子、碳氢基、硝基之群组,p、q系p+q=0~8之整数,碳 氢基系选自包含1~20碳数之脂肪族基、芳香族基之 群组;Y2系选自单键、氧原子、硫原子、碳数4以上 15以下之伸烷基、次烷基、环伸烷基、环次烷基 、经卤素取代之伸烷基、经卤素取代之次烷基、 及苯基次烷基,以及,羰基、基、脂肪族氧化膦 基、芳香族氧化膦基、烷基矽烷基、二烷基矽烷 基、茀之群组,于树脂组成物中亦可包含2种以上 之R4或Y2不同之2价酚残基]。 3.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其中由一部份膦酸酯残基取代膦酸残基所构成,该 置换比例为50%以下。 4.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其中阿贝数(Abbe's number)为31以上。 5.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其中d射线折射率为1.60以上且阿贝数为26以上。 6.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其中d射线折射率为1.62以上。 7.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其用于成型体。 8.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其用于光学用薄膜。 9.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其用于相位差薄膜。 10.如申请专利范围第1或2项之光学用树脂组成物, 其用于光学镜片。 11.一种树脂组成物,其特征为由碳酸酯残基、以下 述构造式(1)表示之膦酸残基、及以下述构造式(2) 表示之2价酚残基所构成,膦酸残基与碳酸酯残基 之莫耳比例满足通式(3),而该树脂组成物成型为10 mm宽、25mm长、3mm厚之成型体,其性値(曲折应力 裂变位)具有20kgf/mm以上; 1>(a)/{(a)+(b)}≧0.5 (3) [结构式(1)中,R1表示碳数1以上10以下之可含有氧、 氮、硫、卤素之有机基,X1表示氧、硫或硒,树脂组 成物中亦可包含2种以上之R1或X1不同之膦酸残基; 构造式(2)中,R2系个别独立地选自包含氢原子、卤 素原子、碳氢基、硝基之群组,p、q系p+q=0~8之整数 ,碳氢基系选自包含1~20碳数之脂肪族基、芳香族 基之群组,Y1系选自单价、氧原子、硫原子、碳数4 以上15以下之伸烷基、次烷基、环伸烷基、环次 烷基、经卤素取代之伸烷基、经卤素取代之次烷 基、及苯基次烷基,以及,羰基、基、脂肪族氧 化膦基、芳香族氧化膦基、烷基矽烷基、二烷基 矽烷基、茀之群组,树脂组成物中亦可包含2种以 上之R2或Y1不同之2价酚残基;通式(3)中,(a)系表示膦 酸残基之莫耳数、(b)系表示碳酸酯残基之莫耳数] 。 12.如申请专利范围第11项之树脂组成物,其中由一 部份膦酸酯残基取代膦酸残基所构成,该置换比例 为50%以下。 |
