以雷射制作氮化镓装置之方法

摘要

一种以雷射制作氮化镓装置之方法,系利用一雷射产生低于磊晶层可吸收之波长,并在一基板完成磊晶后或剥离制程之同时切割晶粒之大小,以完成薄膜式发光二极体晶粒结构,故本发明适用于各种键合之制程。另,有别于一般常用之薄膜式发光二极体制程,本发明还简化了一般乾蚀刻之制程,直接利用雷射来进行晶粒大小之定义,且该雷射只要能产生使氮化镓吸收之波长,无论系固态雷射亦或气体雷射,皆可应用于本发明之方法。