发明名称 | 高提取效率的半导体发光二极管结构 | ||
摘要 | 高提取效率的半导体发光二极管结构属于光电子器件制造技术领域,适合于多种波长的半导体LED。现有LED虽然内量子效率高,但是外量子效率很低,只有很少的一部分光子能够从LED出射。本实用新型提出在LED外延片上生长ITO透明导电膜与Si<SUB>x</SUB>N<SUB>y</SUB>介质膜组成的复合增透膜结构,ITO透明导电膜的光学厚度为二分之一LED发射波长的整数倍,Si<SUB>x</SUB>N<SUB>y</SUB>介质膜的光学厚度为四分之一LED发射波长的奇数倍,Si<SUB>x</SUB>N<SUB>y</SUB>介质膜的折射率是LED外延片最上层半导体材料的折射率的开方。这种设计能够在实现好的电流扩展的同时,将界面反射率降到最低来实现最佳增透作用,极大的提高外量子效率,使得光强增加了130%以上。 | ||
申请公布号 | CN201060868Y | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
申请号 | CN200620134179.0 | 申请日期 | 2006.10.27 |
申请人 | 北京工业大学 | 发明人 | 沈光地;达小丽;朱彦旭;徐晨;陈依新;黄红娟 |
分类号 | H01L33/00(2006.01) | 主分类号 | H01L33/00(2006.01) |
代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘萍 |
主权项 | 1.一种高提取效率的半导体发光二极管结构,包括LED外延片,其特征是在LED外延片的最上层半导体材料表面上依次生长光学厚度为1/2波长整数倍的ITO透明导电膜(3)和光学厚度为1/4波长奇数倍的SixNy介质膜(2),并且SixNy介质膜(2)的折射率为LED外延片最上层半导体材料的折射率的开方,P电极(1)的底部与ITO透明导电膜(3)直接接触,P电极(1)的侧壁与SixNy 介质膜(2)直接接触。 | ||
地址 | 100022北京市朝阳区平乐园100号 |