发明名称 溅镀靶材及其制法,及可录式光记录媒体
摘要 本发明提供一种用于制备可录式光记录媒体之包含Bi和B的溅镀靶材及其制法,一种使用溅镀靶材之可录式高密度光记录媒体,以及一种能够改进膜形成速度而用于改进生产率之溅镀靶材,其于膜形成时具有高强度且其具有增大之填充密度。
申请公布号 TW200820252 申请公布日期 2008.05.01
申请号 TW096107012 申请日期 2007.03.01
申请人 理光股份有限公司 发明人 林嘉隆;登;藤井俊茂;藤原将行;三浦裕司;加藤将纪;木边刚;鸣海慎也
分类号 G11B7/243(2006.01);G11B7/257(2006.01);G11B5/851(2006.01) 主分类号 G11B7/243(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本