| 发明名称 | 可剥离抗反射薄膜 | ||
| 摘要 | 一种抗反射薄膜及其制造方法，该抗反射薄膜包括具有第一表面和第二表面的基片，沉积于该基片第一表面上的无机层，和通过在该无机层上原位固化可固化组合物而形成的旋光性聚合物层，该聚合物层在400纳米到700纳米的波长范围内具有不超过约1.53的折射率和约20纳米到200纳米的厚度，以及沉积于该基片第二表面上的粘合层。 | ||
| 申请公布号 | CN100385260C | 申请公布日期 | 2008.04.30 |
| 申请号 | CN03812907.8 | 申请日期 | 2003.04.02 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | E·J·德拉海姆;B·C·方;B·D·克鲁格;J·J·刘;P·V·那加卡;W·K·史密斯 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01) | 主分类号 | G02B1/11(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1.一种抗反射薄膜，包括：具有第一表面和第二表面的基片；沉积在该基片第一表面上的无机层；通过在该无机层上原位固化可固化组合物而形成的旋光性聚合物层，该聚合物层在400纳米到700纳米波长范围内的折射率不超过约1.53，其厚度是约20纳米到200纳米；和涂覆在该基片第二表面上的粘合层，所述粘合层具有微纹理。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||