| 发明名称 | 光刻设备、光刻设备和处理模块的组合及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备，被配置用于将图案从图案形成装置转移到衬底上，所述光刻设备包括集成的曝光后烘烤装置，所述曝光后烘烤装置被配置用于使衬底经历预先确定的温度周期。衬底的曝光后烘烤步骤(温度周期)在转移图案之后的预先确定的时间段内执行。光刻设备可以与具有一个或多个处理模块组合在一起。可以更高效地形成组合，为器件制造方法提供灵活性。 | ||
| 申请公布号 | CN101165598A | 申请公布日期 | 2008.04.23 |
| 申请号 | CN200710180753.5 | 申请日期 | 2007.10.11 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | 约翰尼斯·昂伍李;瑞恩德尔·丢恩·普拉格;哈伯特·玛瑞·塞格斯;戴维·克里斯多弗·奥克维尔;保罗·雅克·万威杰恩;苏珊娜·莱奥尼·奥尔－乔恩格皮尔;埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1.一种光刻设备，被构造用于将图案从图案形成装置转移到衬底上，所述光刻设备包括集成的曝光后烘烤装置，所述曝光后烘烤装置被构造用于使衬底经历预先确定的温度周期。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||