| 发明名称 | 一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种抛光垫调节器，其包括基板和基板上的垫调节面。所述调节面包括中心区域和周边区域。包括基本不变宽度的研磨粒子的研磨辐条从中心区域延伸到周边区域，所述研磨辐条彼此径向隔开。辐条对称并彼此径向隔开，并可以具有各种形状。调节面还可以具有在抵靠着抛光垫摩擦调节面时接收浆液的切出入口沟道、从切出入口沟道接收抛光浆液的管道、以及在基板的周边上用于排出接收到的抛光浆液的出口。 | ||
| 申请公布号 | CN201049437Y | 申请公布日期 | 2008.04.23 |
| 申请号 | CN200520127220.7 | 申请日期 | 2005.10.10 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 文卡塔·R·巴拉伽纳;乔治·拉泽若;肯尼·金泰·尼格 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24B37/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵飞 |
| 主权项 | 1.一种抛光垫调节器，包括：(a)基板；和(b)所述基板上的调节面，其特征在于，所述调节面：包括：(i)中心区域和周边区域，和(ii)研磨辐条，包括基本不变宽度的研磨粒子，所述研磨辐条从所述中心区域延伸到所述周边区域，所述研磨辐条彼此径向隔开。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||