| 主权项 |
1.一种用于一基材之化学机械研磨中的固定环,其 包含: 一上环,该上环具有一下表面;以及 一下环,该下环具有一下表面与一上表面,该上表 面邻接该上环的下表面,其中该下环的下表面具有 多个沟槽,以及该上表面具有多个沟槽,且该上表 面的该等沟槽实质上与该下环之下表面的该等沟 槽垂直重叠。 2.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该下表 面中的该等沟槽系从该下环的内径延伸至该下环 的外径。 3.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该上表 面中的该等沟槽系从该下环的内径延伸至该下环 的外径。 4.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该上表 面中每一该等沟槽的位置系对应至该下表面中该 等沟槽的其中一沟槽。 5.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该等沟 槽为弧形。 6.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该等沟 槽为线形。 7.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中每一个 该等沟槽的一边缘为直线状,且其相对侧边缘为曲 线状。 8.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该等沟 槽不平行于该固定环的半径。 9.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中介于该 等沟槽间之部分的宽与厚度的比例介于约1:1至10:1 之间。 10.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该上 表面中的该等沟槽具有一U形截面,其中该等侧壁 系实质互相垂直。 11.如申请专利范围第1项所述之固定环,其中该下 环系由充碳聚醚醚酮(carbon-filled PEEK)所形成。 12.一种用于一基材之化学机械研磨中的固定环,包 括: 一第一环状部分;以及 一第二环状部分,其中该第二环状部分具有多个相 对厚的子部分以及多个相对薄的子部分,且该等薄 子部分之顶面与底面不与该等厚子部分之顶面与 底面共平面。 13.一种制造一固定环的方法,其包括: 形成一第一环状部分,其具有一上表面与一下表面 ,该上表面具有多个上表面沟槽,以及该下表面具 有多个下表面沟槽,其中,该上表面中之该等上表 面沟槽的位置实质相对应于该下表面中之该等下 表面沟槽的位置。 14.如申请专利范围第13项所述之方法,其中形成该 第一环状部分的步骤包括于该第一环状部分中加 工出该等上表面沟槽与下表面沟槽。 15.如申请专利范围第13项所述之方法,更包括: 形成一第二环状部分;以及 将该第二环状部分的一下表面固定至该第一环状 部分的一上表面。 16.如申请专利范围第15项所述之方法,其中将该第 二环状部分固定至该第一环状部分的步骤包括将 该两部分黏着在一起。 17.如申请专利范围第13项所述之方法,其中形成该 第一环状部分的步骤包括射出成形一塑胶材料。 18.一种用于化学机械研磨一基材的系统,其包括: 一承载头,该承载头包含: 一基材背衬件; 一如申请专利范围第1项所述之固定环;以及 一研磨表面支撑件,其中,在基材研磨的过程中,该 固定环被携带至接近该研磨表面支撑件处。 19.如申请专利范围第18项所述之系统,其中该第二 环状部分之上表面的该等沟槽系形成在对应于该 下表面之该等沟槽位置的位置中。 20.一种用于化学机械研磨一基材中之一固定环的 一部分,该部分包括: 一环,其具有一上表面与一下表面,其中该上表面 具有多个上表面沟槽,且该下表面具有多个下表面 沟槽,以及该等上表面沟槽的至少其中一者系实质 上与该等下表面沟槽的至少其中一者垂直重叠。 21.一承载头,其包括: 一基材背衬件,其具有一基材接触表面;以及 一如申请专利范围第1项所述之固定环,其环绕着 该基材接触表面。 图式简单说明: 第1图系一化学机械研磨装置的分解透视图; 第2A与2B图系一两件式固定环的分解透视图; 第3图系一复合固定环的下视图; 第4图系一复合固定环的透视图; 第5图系一复合固定环的侧剖面图; 第6图系一复合固定环的部分剖面透视图; 第7-11图系显示一固定环的下表面; 第12图显示一固定环之一部分的部分剖面图; 第13图显示一固定环的部分剖面图。 |
