发明名称 |
化学气相沉积的设备 |
摘要 |
该技术为热处理行业处理设备领域。该设备由反应器、加热系统、原料气供给及进气系统、抽真空系统四个主要部分组成。目前普通化学气相沉积是靠热能激活的化学反应,其主要缺点:反应温度高,限制了化学气相沉积的应用。为了降低反应温度降低,化学气相沉积有了新的进展。通过气态物质在工件表面的化学反应,获得沉积物粒子并成膜;可在常压或低于标准大气压下进行。采用等离子和激光辅助技术可以显著强化化学反应,使其在较低的温度下进行沉积;为使沉积层达到所要求的性能,对气相反应必须精确控制。 |
申请公布号 |
CN101158035A |
申请公布日期 |
2008.04.09 |
申请号 |
CN200710135542.X |
申请日期 |
2007.11.13 |
申请人 |
吴江市天地人真空炉业有限公司 |
发明人 |
肖文进 |
分类号 |
C23C16/52(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/52(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.设备较简单,适于大批量生产,灵活性强;膜层的化学成分容易控制,膜层纯度高、致密性好,可以获得梯度腹层或混合腹层;沉积温度高,通常在850~1100℃进行,膜层与基体的结合强度高。 |
地址 |
215200江苏省吴江市松陵(八坼)开发区吴江市天地人真空炉业有限公司 |