发明名称 |
染料系偏振板 |
摘要 |
本发明的目的在于提供染料内含的副产物的影响少、具有可见光范围及紫外区中优异的偏振光性能与耐湿性、耐热性的高性能的偏振板。在聚乙烯醇系树脂薄膜中含有游离酸形式的下述式(1)表示的水溶性染料或其盐的90%以上的高纯度品的染料系偏振膜的至少一面贴合380nm下的透过率70%以上的薄膜,构成偏振板。(式中,R<SUB>1</SUB>,R<SUB>2</SUB>表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羧基,R<SUB>3</SUB>、R<SUB>4</SUB>表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羟基,X表示O、S、NH或NCH<SUB>3</SUB>。另外,l、m表示0、1或2,l+m>0)。 |
申请公布号 |
CN100380146C |
申请公布日期 |
2008.04.09 |
申请号 |
CN200480022698.1 |
申请日期 |
2004.08.06 |
申请人 |
日本化药株式会社;宝来技术株式会社 |
发明人 |
贞光雄一;川边和幸 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01);C09B29/045(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王健 |
主权项 |
1.染料系偏振膜,其特征在于,在聚乙烯醇系树脂薄膜中含有游离酸的形式的下述式(1)表示的纯度90%以上的水溶性染料或其盐,<img file="C2004800226980002C1.GIF" wi="1047" he="190" />式中,R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羧基,R<sub>3</sub>、R<sub>4</sub>表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羟基,X表示O、S、NH或NCH<sub>3</sub>,而1、m表示0、1或2,1+m>0,该偏振膜在近紫外区有偏振光特性。 |
地址 |
日本东京 |