发明名称 溅镀靶组件及其制法
摘要 本发明系关于一种制造结合于一底板之一溅镀靶组件之方法。该方法包括将一靶结合于一高强度底板,及进一步使用摩擦搅拌焊接制程在该靶与该底板之间建立一真空密封。
申请公布号 TW200815136 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096129564 申请日期 2007.08.10
申请人 塔沙SMD公司 发明人 优吉尼Y. 伊凡诺夫;艾瑞屈 瑟都
分类号 B23K31/02(2006.01);C23C14/34(2006.01) 主分类号 B23K31/02(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 美国