发明名称 基板处理装置
摘要 本发明之目的在于提供一种可防止以预定角度倾斜搬运之基板由支持背面之支持辊子浮起之基板处理装置。本发明系有关于一种基板处理装置,系使基板以预定之角度倾斜进行搬运,并使用流体进行处理者,包含有:室;支持辊子,系设置于该室内,并用以支持前述基板之倾斜方向下侧之背面者;驱动辊子,系藉由外周面支持背面由前述支持辊子所支持之前述基板下端并被驱动旋转而将前述基板朝预定方向搬运者;流体供给机构,系朝前述基板之倾斜方向上侧之前面喷射前述流体者;及流体返回防止构件,系设置于与所搬运之前述基板之背面对向之前述室之后壁内面,用以防止由前述流体供给机构喷射且与前述室之前述后壁内面碰撞反射之流体喷溅到前述基板背面者。
申请公布号 TW200816354 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096127087 申请日期 2007.07.25
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 发明人 广濑治道;矶明典;西部幸伸;石川大辅
分类号 H01L21/677(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/677(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 日本