发明名称 | 光记录介质 | ||
摘要 | 本发明提供一种光记录介质,其在高线速度的记录中可以获得良好的记录特性,进而可以很好地维持1次或多次的改写特性,而且具有较高的长期保存稳定性。作为本发明的解决方案,相变型光记录介质具有基板(1)、以及至少还具有记录层(3)和反射层(5)。记录层(3)的材料是Ge-Sb-In-Sn合金,当将构成合金的元素各自的原子比设定为a、b、c、d时,满足以下的式(1)~式(4)的关系。0.08≤a≤0.20(1),0.60≤b≤0.80(2),0.05≤c≤0.20(3),0.01≤d≤0.15(4),其中,a+b+c+d=1。 | ||
申请公布号 | CN100375177C | 申请公布日期 | 2008.03.12 |
申请号 | CN200510128961.1 | 申请日期 | 2005.12.02 |
申请人 | 日本胜利株式会社 | 发明人 | 田畑浩 |
分类号 | G11B7/243(2006.01);G11B7/258(2006.01) | 主分类号 | G11B7/243(2006.01) |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 陈建全 |
主权项 | 1.一种相变型光记录介质,其中具有基板、以及在所述基板上至少还具有用于记录信息的记录层和用于反射入射光的反射层;所述记录层以Ge-Sb-In-Sn合金为主要成分;当将构成所述Ge-Sb-In-Sn合金的Ge、Sb、In、Sn元素的原子比分别设定为a、b、c、d时,所述原子比a~d满足以下的式(1)~式(4):0.08≤a≤0.20 (1)0.60≤b≤0.80 (2)0.05≤c≤0.20 (3)0.01≤d≤0.15 (4)其中,a+b+c+d=1。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |