发明名称 |
镧钙锰氧薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种镧钙锰氧薄膜(La<SUB>0.67</SUB>Ca<SUB>0.33</SUB>MnO<SUB>3</SUB>)的制备方法,该方法对镧钙锰氧薄膜采用激光辐照退火;该制备方法由下述步骤组成:清洗基片;将清洗干净的基片进行干燥后置于真空室内的硅板加热器上;抽真空至4×10<SUP>-4</SUP>~4×10<SUP>-5</SUP>Pa;硅板加热器升温至450℃~600℃;同时真空室内真空保持在4×10<SUP>-4</SUP>Pa~4×10<SUP>-5</SUP>Pa;向真空室内充入氧气,使真空室内的流动氧压保持在5~80Pa;利用准分子激光轰击La<SUB>0.67</SUB>Ca<SUB>0.33</SUB>MnO<SUB>3</SUB>靶材;薄膜沉积结束后,硅板在2~5分钟内降至室温;最后激光辐照退火:将制备的薄膜置于旋转平台上,平台以10度~30度/S的转速旋转,在60~240秒之内将激光功率密度逐渐调节到40~50W/cm<SUP>2</SUP>,功率密度保持10~300秒后,在120~240秒之内将激光功率密度逐渐降至零。 |
申请公布号 |
CN100374615C |
申请公布日期 |
2008.03.12 |
申请号 |
CN200610001065.3 |
申请日期 |
2006.01.18 |
申请人 |
北京工业大学 |
发明人 |
蒋毅坚;常雷 |
分类号 |
C23C14/28(2006.01);C23C14/06(2006.01);C23C14/02(2006.01);C23C14/54(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/28(2006.01) |
代理机构 |
北京思海天达知识产权代理有限公司 |
代理人 |
张慧 |
主权项 |
1.一种镧钙锰氧薄膜La0.67Ca0.33MnO3的制备方法,其特征在于:对镧钙锰氧薄膜采用激光辐照退火;该制备方法由下述步骤组成:步骤1:清洗基片;将清洗干净的基片进行干燥后置于真空室内的硅板加热器上;步骤2:抽真空至4×10-4~4×10-5Pa;步骤3:硅板加热器升温至450℃~600℃;同时真空室内真空保持在4×10-4Pa~4×10-5Pa;步骤4:向真空室内充入氧气,使真空室内的流动氧压保持在5~80Pa;步骤5:利用准分子激光轰击La0.67Ca0.33MnO3靶材;步骤6:薄膜沉积结束后,硅板在2~5分钟内降至室温;步骤7:激光辐照退火:将制备的薄膜置于旋转平台上,平台以10度~30度/S的转速旋转,在60~240秒之内将激光功率密度逐渐调节到40~50W/cm2,功率密度保持10~300秒后,在120~240秒之内将激光功率密度逐渐降至零。 |
地址 |
100022北京市朝阳区平乐园100号 |