使用含矽前驱物和氧原子来化学气相沈积高品质之流式二氧化矽

摘要

本文描述沉积氧化矽层于基材上的方法。该方法可包括提供基材至沉积室、在沉积室外产生氧原子前驱物以及将氧原子前驱物引至沉积室中之多个步骤。该方法亦可包括引进矽前驱物至沉积室中，其中矽前驱物和氧原子前驱物先在沉积室内混合。矽前驱物与氧原子前驱物反应而形成氧化矽层于基材上，所沉积之氧化矽层可经退火处理。本文亦描述用来沉积氧化矽层于基材上的系统。