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发明名称 Method for controlling ion the source of growth-type defect of photo mask
摘要
申请公布号 KR100801730(B1) 申请公布日期 2008.02.11
申请号 KR20050130997 申请日期 2005.12.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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