发明名称 二维结构之绕射阶次选择的最佳化
摘要 光学量测中用以产生一二维结构之模拟绕射信号之绕射阶数(绕射阶次之数目)的选择,首先系利用一第一绕射阶数以及二维结构之一假设性轮廓产生一第一模拟绕射信号。接着利用一第二绕射阶数产生一第二模拟绕射信号,其中第二绕射阶数使用与用以产生第一模拟绕射信号者相同之假设性轮廓,且第一绕射阶数与第二绕射阶数彼此不同。接着将第一与第二模拟绕射信号进行比较。最后根据第一与第二模拟绕射信号之比较结果,决定选择第一或第二绕射阶数。
申请公布号 TW200806979 申请公布日期 2008.02.01
申请号 TW096110094 申请日期 2007.03.23
申请人 迪伯技术股份有限公司 发明人 金文;李世芳;斯里尼凡斯 多迪
分类号 G01N23/20(2006.01);G06F17/00(2006.01) 主分类号 G01N23/20(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋
主权项
地址 美国