晶圆处理装置及方法

摘要

本发明系一种基板之边缘区域的处理装置，且欲处理之边缘区域藉由使一惰性气体流过靠近欲处理区域之空间而与该基板之其余部份隔离，以形成一障壁，并且使一反应性物种相对该基板顶表面呈一角度地朝该基板边缘流动，以处理该基板边缘区域。又，一随着一负排气压力一起流入该处理室之含氧气体可用以将该等反应性物种与其他气体偏压远离该基板之非处理区域。