发明名称 制程气体泄漏源侦测系统与方法
摘要 一种制程气体泄漏源侦测系统。一开放光径式FTIR侦测系统设置于该厂半导体制造厂之回风处,用以侦测泄漏气体,并且藉由一通讯网路将侦测所得之气体成份资讯传送至该资料伺服器。一多采样孔与抽气式FTIR侦测系统设置于该厂半导体制造厂内,用以利用设置于该厂半导体制造厂内之不同区域的管线收集并侦测泄漏气体,并且藉由该通讯网路将侦测所得之气体成份资讯传送至该资料伺服器。一IR监测系统藉由该通讯网路自该资料伺服器取得该气体成份资讯。一制程尾气管理系统藉由该通讯网路自该IR监测系统取得该气体成份资讯以进行可能泄漏来源之分析处理与判断。
申请公布号 TWI293165 申请公布日期 2008.02.01
申请号 TW094122838 申请日期 2005.07.06
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 吕建豪;颜绍仪;施惠雅;游生任
分类号 G08B21/00(2006.01);G01N21/35(2006.01) 主分类号 G08B21/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼;颜锦顺 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种制程气体泄漏源侦测系统,其适用于一制造 厂之制程控制,包括: 一资料伺服器; 一开放光径式FTIR侦测系统,其设置于上述制造厂 之回风处,用以侦测泄漏气体,并且藉由一通讯网 路将侦测所得之气体成份资讯传送至上述资料伺 服器; 一多采样孔与抽气式FTIR侦测系统,其设置于上述 制造厂内,用以利用设置于上述制造厂内之不同区 域的管线收集并侦测泄漏气体,并且藉由上述通讯 网路将侦测所得之气体成份资讯传送至上述资料 伺服器; 一IR监测系统,用以藉由上述通讯网路自上述资料 伺服器取得上述气体成份资讯;以及 一制程尾气管理系统,用以藉由上述通讯网路自上 述IR监测系统取得上述气体成份资讯以进行泄漏 来源之分析处理与判断。 2.如申请专利范围第1项所述的制程气体泄漏源侦 测系统,其更包括一资料库管理与气体浓度查询系 统,用以查询上述资料伺服器中之上述气体成份资 讯。 3.如申请专利范围第1项所述的制程气体泄漏源侦 测系统,其中,当上述IR监测系统侦测到气体浓度超 过一临界値时即发出警报,并且自动启动上述制程 尾气管理系统。 4.如申请专利范围第1项所述的制程气体泄漏源侦 测系统,其中,每当上述资料伺服器取得侦测所得 之气体成份资讯时,上述IR监测系统即进行即时更 新。 5.如申请专利范围第1项所述的制程气体泄漏源侦 测系统,其中,上述多采样孔与抽气式FTIR侦测系统 经由其中一管线取得上述管线所在区域之气体成 份资讯并进行分析处理。 6.一种制程气体泄漏源侦测方法,其适用于一制造 厂之制程控制,包括下列步骤: 提供一开放光径式FTIR侦测系统、一多采样孔与抽 气式FTIR侦测系统、一IR监测系统、一制程尾气管 理系统、一资料库管理与气体浓度查询系统以及 一资料伺服器,其中上述开放光径式FTIR侦测系统 设置于上述制造厂之回风处; 利用上述开放光径式FTIR侦测系统并藉由一通讯网 路,将侦测所得之气体成份资讯传送至上述资料伺 服器; 利用上述多采样孔与抽气式FTIR侦测系统并藉由上 述通讯网路,将利用设置于上述制造厂内之不同区 域的管线侦测所得之气体成份资讯传送至上述资 料伺服器; 利用上述IR监测系统并藉由上述通讯网路自上述 资料伺服器取得上述气体成份资讯;以及 利用上述制程尾气管理系统并藉由上述通讯网路 自上述IR监测系统取得上述气体成份资讯以进行 泄漏来源之分析处理与判断。 7.如申请专利范围第6项所述的制程气体泄漏源侦 测方法,其更包括利用一资料库管理与气体浓度查 询系统并藉由上述通讯网路,查询上述资料伺服器 中之上述气体成份资讯。 8.如申请专利范围第6项所述的制程气体泄漏源侦 测方法,其更包括当上述IR监测系统侦测到气体浓 度超过一临界値时即发出警报,并且自动启动上述 制程尾气管理系统。 9.如申请专利范围第6项所述的制程气体泄漏源侦 测方法,其更包括每当上述资料伺服器取得侦测所 得之气体成份资讯时,上述IR监测系统即进行即时 更新。 10.如申请专利范围第6项所述的制程气体泄漏源侦 测方法,其更包括利用上述多采样孔与抽气式FTIR 侦测系统,并经由其中一管线取得上述管线所在区 域之气体成份资讯并进行分析处理。 图式简单说明: 第1图系显示本发明实施例之光学式气体泄漏源侦 测系统的架构示意图。 第2图系显示本发明实施例之制程气体泄漏源侦测 方法的步骤流程图。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号