Beleuchtungsoptik für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage, Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithografisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement

摘要

Eine Beleuchtungsoptik für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage (1) dient zur Ausleuchtung einer Objektoberfläche (19) mit Beleuchtungslicht (3) einer Lichtquelle (3). Zur Einstellung zweier verschiedener Beleuchtungssettings in einer Pupillenebene (12) der Beleuchtungsoptik dienen zwei voneinander separate optische Baugruppen (28, 29). Vor diesen ist ein Auskoppel-Strahlteiler (9) angeordnet. Nach diesen ist ein Einkoppel-Strahlteiler (35) angeordnet. Vor dem Auskoppel-Strahlteil (9) ist eine schaltbare Lichteigenschaft-Wechseleinrichtung (8) angeordnet, welche je nach Schaltung Beleuchtungslicht (3), das in die Lichteigenschaft-Wechseleinrichtung (8) eintritt, in Licht mit einer ersten oder einer zweiten Lichteigenschaft überführt. Je nach Lichteigenschaft wird das Beleuchtungslicht (3) durch die erste oder die zweite optische Baugruppe (28) geleitet. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik ein eine zusätzlich die Lichtquelle aufweisendes Beleuchtungssystem, mit dem ein schneller Wechsel zwischen unterschiedlichen Beleuchtungssettings möglich ist.