| 发明名称 | 光刻机工件台平衡定位系统 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻机工件台平衡定位系统，其包括基础框架、长行程模块、平衡质量系统、Y向平衡块防漂系统、X向平衡块防漂系统、测量系统，其中长行程模块包括两个Y向长行程电机和两个X向长行程电机，长行程模块建立在平衡质量系统之上；所述平衡质量系统包括两个Y向平衡块和一个X向平衡块，平衡质量系统建立在基础框架上；Y向平衡块防漂系统安装在Y向平衡块与X向平衡块之间，用于补偿两个Y向平衡块相对X向平衡块的漂移；X向平衡块防漂系统安装在X向平衡块与基础框架之间，用于补偿X向平衡块在X、Y和Rz向的漂移；测量系统用于测量各长行程电机和平衡块的位置、速度和加速度。与现有技术相比，通过平衡块的平衡作用，可以提高系统的定位精度。 | ||
| 申请公布号 | CN101101447A | 申请公布日期 | 2008.01.09 |
| 申请号 | CN200710041226.6 | 申请日期 | 2007.05.25 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 王占祥;袁志扬;严天宏 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王洁 |
| 主权项 | 1.一种光刻机工件台平衡定位系统，其包括基础框架、长行程模块、平衡质量系统、Y向平衡块防漂系统、X向平衡块防漂系统、测量系统，其特征在于：长行程模块包括两个Y向长行程电机和两个X向长行程电机，长行程模块建立在平衡质量系统之上；所述平衡质量系统包括两个Y向平衡块和一个X向平衡块，平衡质量系统建立在基础框架上；Y向平衡块防漂系统安装在Y向平衡块与X向平衡块之间，用于补偿两个Y向平衡块相对X向平衡块的漂移；X向平衡块防漂系统安装在X向平衡块与基础框架之间，用于补偿X向平衡块在X、Y和Rz向的漂移；测量系统用于测量各长行程电机和平衡块的位置、速度和加速度。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江高科技园区张东路1525号 | ||