发明名称 |
基于一价铜配合物材料的有机磷光电致发光器件 |
摘要 |
本发明属于有机磷光电致发光(POEL)器件技术领域,涉及一种基于一价铜配合物材料的有机磷光电致发光器件,其为层状结构,由衬底到阴极依次为衬底、透明导电膜、空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡-电子传输层、电子注入层、阴极;其中发光层选择CBP或BPhen做基质,Cu(I)-配合物做掺杂剂。本发明用热蒸发工艺制备,通过改变Cu(I)-配合物在基质中的浓度制作从绿到深红发光色变化的POEL器件,提高了器件的效率和工作寿命,制作工艺更加灵活。 |
申请公布号 |
CN101097996A |
申请公布日期 |
2008.01.02 |
申请号 |
CN200710055786.7 |
申请日期 |
2007.06.20 |
申请人 |
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
发明人 |
李文连;车广波;初蓓;毕德锋 |
分类号 |
H01L51/50(2006.01);H01L51/54(2006.01);H01L51/56(2006.01) |
主分类号 |
H01L51/50(2006.01) |
代理机构 |
长春菁华专利商标代理事务所 |
代理人 |
赵炳仁 |
主权项 |
1、一种基于一价铜配合物材料的有机磷光电致发光器件,其特征在于为层状结构,由衬底到阴极依次为衬底、透明导电膜、空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡-电子传输层、电子注入层、阴极;空穴注入层为CuPc材料或m-MTDATA材料,CuPc材料厚度为1nm~5nm,m-MTDATA材料厚度为10nm-40nm;空穴传输层材料采用NPB,厚度为30nm-50nm;发光层是共沉积的基质CBP或BPhen和掺杂剂,厚度为15~25nm,掺杂剂为Cu(I)-配合物,基质与Cu(I)-配合物的重量比为100∶(2~20);空穴阻挡-电子传输层为TPBI材料,厚度为30nm~40nm;电子注入层的材料选用LiF或CsF,厚度采用0.8~3nm;阴极的材料采用Al,厚度为100~150nm。 |
地址 |
130031吉林省长春市东南湖大路16号 |