| 主权项 |
1.一种溶剂组成物,其特征为,包含70重量%以下的具 有碳原子数为3至7之直链状或支链状之构造,氟含 有率为30至80重量%之氟素取代脂肪族醇、及30重量 %以上的2种以上具有碳原子数为1至15之直链状或 支链状之构造,沸点为30至250℃范围之无氟素取代 有机溶剂所成,制造使用1种或2种以上选自花 色素、菁系色素、系色素、偶氮系色素、 以如一般式1所表示之偶氮化合物为配位基之偶氮 系金属配位化合物,以及以如一般式2所表示之甲 化合物为配位基之甲金属配位化合物之化合 物; 一般式1中,Z1是表示杂环或芳香环,另外,Z2表示与Z1 相同或相异之杂环或芳香环,这些杂环或芳香环亦 可具有取代基; 一般式2中,Z3表示啶环,Z4是表示杂环或芳香环,Z5 是表示杂环、芳香环或脂肪族烃基,这些杂环、芳 香环以及脂肪族烃基亦可具有取代基之有机色素 化合物的光记录媒体者。 2.如申请专利范围第1项之溶剂组成物,其中氟素取 代脂肪族醇为2,2,3,3-四氟-1-丙醇。 3.如申请专利范围第1项或第2项之溶剂组成物,其 中无氟素取代有机溶剂为2种以上选自无氟素取代 脂肪族醇系溶剂及无氟素取代脂肪族酮系溶剂。 4.如申请专利范围第1项或第2项之溶剂组成物,其 中无氟素取代有机溶剂为2-丙醇及丙酮。 5.如申请专利范围第1项或第2项之溶剂组成物,其 中氟素取代脂肪族醇之含量未达30重量%。 6.一种光记录媒体之制造方法,其特征为,经由将有 机色素化合物溶解于如申请专利范围第1项至第5 项中任一项之溶剂组成物中,涂布于基板上之步骤 。 7.如申请专利范围第6项之制造方法,其中有机色素 化合物为1种或2种以上选自花色素、菁系 色素、系色素、偶氮系色素、以如一般式1所 表示之偶氮化合物为配位基之偶氮系金属配位化 合物,以及以如一般式2所表示之甲化合物为配 位基之甲金属配位化合物之化合物; 一般式1中,Z1表示杂环或芳香环,另外,Z2表示与Z1相 同或相异之杂环或芳香环,这些杂环或芳香环亦可 具有取代基; 一般式2中,Z3表示啶环,Z4表示杂环或芳香环,Z5表 示杂环、芳香环或脂肪族烃基,这些杂环、芳香环 以及脂肪族烃基亦可具有取代基。 图式简单说明: 第1图为实验例中所使用之光记录媒体之概略图。 |
