发明名称 侧光式背光模组
摘要 本创作系关于一种侧光式背光模组,其包括:一光源;以及一导光板,具有一侧边之入光面及一向上之出光面,此入光面具有一对应此光源之凹槽,且此凹槽之表面具有复数个凹面镜。径由这些设置于导光板之凹槽表面的凹面镜,光源可更进一步地到达导光板的各个部分,使得本创作之侧光式背光模组可有效地改善「车头灯效应」现象的发生并提高背光模组亮度的均一性。
申请公布号 TWM324222 申请公布日期 2007.12.21
申请号 TW096207347 申请日期 2007.05.08
申请人 中华映管股份有限公司 发明人 古宇芳;张益庆
分类号 G02F1/13357(2006.01) 主分类号 G02F1/13357(2006.01)
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;苏建太 台北市松山区敦化北路102号9楼;杨庆隆 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项 1.一种侧光式背光模组,包括: 一光源;以及 一导光板,具有一侧边之入光面及一向上之出光面 ,该入光面具有一对应该光源之凹槽,且该凹槽之 表面具有复数个凹面镜。 2.如申请专利范围第1项所述之侧光式背光模组,其 中该些凹面镜之形状为U形、半圆形、半椭圆形、 圆弧形、具有弧形项端之多边形或前述各种形状 之组合。 3.如申请专利范围第1项所述之侧光式背光模组,其 中该光源为一发光二极体。 4.如申请专利范围第1项所述之侧光式背光模组,其 中该凹槽宽度为该些凹面镜宽度的25至30倍。 5.如申请专利范围第1项所述之侧光式背光模组,其 中该些凹面镜的数目系介于35至50,最佳介于40至45 。 6.如申请专利范围第3项所述之侧光式背光模组,其 中该发光二极体为白光发光二极体。 7.如申请专利范围第1项所述之侧光式背光模组,其 更包括一位于该导光板之底表面的反射片。 8.一种侧光式背光模组,包括: 一光源;以及 一导光板,具有一侧边之入光面、一向上之出光面 及一凹槽,该凹槽对应于该光源,且该凹槽之表面 具有复数个凹面镜; 其中,该凹槽具有一底面,且该底面与该导光板之 入光面具有一间距。 9.如申请专利范围第8项所述之侧光式背光模组,其 中该些凹面镜之形状为U形、半圆形、半椭圆形、 圆弧形、具有弧形顶端之多边形或前述各种形状 之组合。 10.如申请专利范围第8项所述之侧光式背光模组, 其中该光源为一发光二极体。 11.如申请专利范围第8项所述之侧光式背光模组, 其中该凹槽宽度为该些凹面镜宽度的25至30倍。 12.如申请专利范围第8项所述之侧光式背光模组, 其中该些凹面镜的数目系介于35至50,最佳介于40至 45。 13.如申请专利范围第10项所述之侧光式背光模组, 其中该发光二极体为白光发光二极体。 14.如申请专利范围第8项所述之侧光式背光模组, 其更包括一位于该导光板之底表面的反射片。 图式简单说明: 图1系习知之侧光式背光模组的立体示意图。 图2A系本创作第一较佳实施例之侧光式背光模组 的立体示意图。 图2B系本创作第一较佳实施例之侧光式背光模组 所具之凹槽的局部放大上视示意图。 图3A系本创作第二较佳实施例之侧光式背光模组 的立体示意图。 图3B系本创作第二较佳实施例之侧光式背光模组 所具之凹槽的局部放大上视示意图。
地址 台北市中山区中山北路3段22号