发明名称 薄膜制造装置及薄膜制造装置用内部块
摘要 本发明提供一种因零件的共同化所实现之成本减少与成膜效率之提升的薄膜制造装置。本发明之薄膜制造装置(10)系藉由设置于真空槽(12)内部的内部块(17)来界定反应空间(31)的容积,只要改变内部块(17)内径的尺寸,不用改变真空槽尺寸,即可达成反应空间(31)之容积的最适化。依此构成,可使用共同的真空槽(12)来进行不同尺寸之复数种基板(W)的成膜。再者,由于可配合所处理之基板尺寸,将所准备之装置构造零件之数量的增加抑制在最小限度,所以可达成零件成本的降低,同时达成组装作业/制品检查作业/调整作业的简单化,并实现良好的成膜效率与稳定成膜。
申请公布号 TW200745374 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096116062 申请日期 2007.05.07
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 山田贵一;入野修;加贺美刚
分类号 C23C16/455(2006.01);C23C16/54(2006.01);H01L21/205(2006.01) 主分类号 C23C16/455(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本