| 发明名称 |
微影装置及元件制造方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种浸没微影曝光装置，其中选择浸液之顶部涂层之pH以最大化相对速度，在此相对速度下，液体供应系统之一部分与基板W可相对于彼此移动而不发生在彼等组件之间延伸的一弯液面之崩溃。 |
| 申请公布号 |
TW200745777 |
申请公布日期 |
2007.12.16 |
| 申请号 |
TW096111456 |
申请日期 |
2007.03.30 |
| 申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
马汀斯 韩瑞卡 安东尼斯 林德斯;HENDRIKUS ANTONIUS;米奇尔 瑞潘;马汀 安东 波斯 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
荷兰 |
