发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 本发明揭示一种包含一位移测量系统之微影装置,该位移测量系统在中心于一可移动物件之中心的一正交x-y-z座标系统的至少三共面自由度(x、y、Rz)中,测量该可移动物件相对于该微影装置之一参考框架的位置。该可移动物件包括一支撑结构,其系配置成用以支撑一图案化元件;或一基板台,其系配置成用以支撑一基板。该位移测量系统包括至少三感测器头,各感测器头系以实质上与座标系统之x-y平面共面的一测量方向定位,且各感测器头系进一步以实质上垂直于一连接线之测量方向定位,该连接线连接该感测器头与该可移动物件之中心,且与x-y平面共面地延伸。
申请公布号 TW200745770 申请公布日期 2007.12.16
申请号 TW096104922 申请日期 2007.02.09
申请人 ASML公司 发明人 英格伯特斯 安东尼斯 法兰西斯寇斯 凡 德 派希;DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS;爱弥儿 裘芙 梅尔莲 尤森
分类号 G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰