| 主权项 |
1.一种钢瓶泄压失重侦测器构造改良,包括: 一基座:包括一前壁与后壁,二者之间隔设一开放 空间; 一悬吊臂: 包括一悬吊杆,该悬吊杆下部设一具有环孔之套环 ,套环内设置轴承及防尘盖; 一摆动臂: 包括一摆动杆,而该摆动杆之封闭端与一枢摆件之 局部侧结合,该枢摆件枢设于悬吊臂套环之环孔; 该枢摆件之另一局部侧设一勾体,该勾体随枢摆件 枢摆而改变其位置,且基座之底壁上方设一弹簧, 弹簧之上部设一对应勾件,而当勾体随枢摆件枢摆 至对应勾件时,该勾体对于该对应勾件相互勾拉; 该枢摆件设一触动机构,且该触动机构可随枢摆件 枢摆至对应限制开关之启闭状态; 一机盒: 内部设一警示装置,该警示装置设置一组限制开关 。 2.如申请专利范围第1项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在于该警示装置更设另一组限 制开关,藉由二组限制开关供现场警示及远控系统 连接使用。 3.如申请专利范围第1项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在于该环孔之外侧设有一光滑 平面之第一滑动环,该第一滑动环之外侧设有一第 一轴承。 4.如申请专利范围第3项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在于该第一轴承之外侧设一防 尘盖板。 5.如申请专利范围第1项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在于该枢摆件之触动机构系以 枢摆件之径向之壁厚形成不同之较小厚度区以及 较大厚度区,较小厚度区于枢摆件不枢摆时,对于 限制开关接触点形成轻微碰触或者不碰触,而在枢 摆件枢摆至较大厚度区对应于机盒之限制开关接 触点时,则形成实际之压着而使限制开关作动。 6.如申请专利范围第1项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在于枢摆件之轴孔外缘,设有 一第二轴承与第三轴承,于轴孔内缘则穿设一轴杆 ,该轴杆固定基座于前壁与后壁。 7.如申请专利范围第1项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在于且该第二轴承与第三轴承 之内缘与轴杆之间,又设一第二滑动环与第三滑动 环。 8.如申请专利范围第1项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在于该第二轴承与第三轴承又 分别于轴杆外缘套设一定位垫圈,抵于第二轴承与 第三轴承之外侧,形成一隔离与防护避免悬吊臂套 环及枢摆件与基座之前壁或后壁形成接触而影响 侦测器之灵敏性与精确性。 9.如申请专利范围第1项所述之钢瓶泄压失重侦测 器构造改良,其特征在该枢摆件之侧边设有复数个 依序相间之插设孔,以提供勾体之位置变换插设, 不同位置之勾体与弹簧对应勾件互相勾拉之距离 差与时间差,产生之缓冲击力量大小不同,即藉由 勾体之位置变换插设与不同弹簧拉力之组合,可产 生多变性之缓冲击力量,如此可视实际缓冲击力量 大小之需求,轻易设计达成目的。 图式简单说明: 第一A图系先前技术作用之示意一图 第一B图系先前技术作用之示意二图 第二图系本创作之立体组合图 第三图系本创作之立体分解图 第四A图系本创作之枢摆件未摆动状态之平面示意 图 第四B图系本创作之枢摆件摆动状态之平面示意图 第四C图系本创作之枢摆件至极限之平面示意图 第五图系本创作之平面组合剖视图 第六图系本创作之限制开关以及警示装置示意图 第七图系本创作固定于一固定物之平面图 第八图系显示本创作防尘盖板之立体示意图 第九图系本创作枢摆件插设孔示意图 第十图系无弹簧作为缓冲之平面示意图 |
