干膜抗蚀剂

摘要

本发明的课题在于提供一种干膜抗蚀剂，其作为抗蚀阻剂或抗镀敷剂等的抗蚀剂材料，具有特别的高解像性和高粘结性以及抗蚀剂剥离性，而且还具有在显影液中分散稳定性优异的特性。本发明通过提供下述干膜抗蚀剂而解决了上述问题，即，一种干膜抗蚀剂，是在支持体上层叠含有下述物质的光聚合性树脂组合物而成的干膜抗蚀剂，所述物质为，(A)30～80质量％的含羧基粘合剂、(B)15～60质量％的可以进行光聚合的单体、(C)0.01～20质量％的光聚合引发剂，该干膜抗蚀剂的特征在于，(A)含羧基粘合剂和(B)可以进行光聚合的单体具有特定的结构。

主权项

1.一种干膜抗蚀剂，是在支持体上层叠含有下述物质的光聚合性树脂组合物而形成的干膜抗蚀剂，所述物质为，(A)30～80质量％的含羧基粘合剂、(B)15～60质量％的可以进行光聚合的单体、(C)0.01～20质量％的光聚合引发剂；该干膜抗蚀剂的特征在于，(A)含羧基粘合剂，在100质量％(A)成分中含有5质量％或其以上的共聚物(a-1)，共聚物(a-1)是至少由15～35质量％的下述通式(I)所示的单体I、10～80质量％的下述通式(II)所示的单体II、1～50质量％的下述通式(III)所示的单体III进行共聚合而形成的、且重均分子量为5,000～500,000的共聚物，其中，R¹表示氢原子或甲基；其中，R²表示氢原子或甲基、R⁴表示氢原子、甲基、乙基、甲氧基、乙氧基、氯原子、或溴原子；其中，R³表示氢原子或甲基、R⁵表示碳原子数为6～12的烷基；作为(B)可以进行光聚合的单体，含有下述通式(IV)所示的化合物，其中，R⁶表示氢原子或甲基、R⁷表示-CH₂OH、-CH₂O(CO)CH＝CH₂、或-CH₂O(CO)C(CH₃)＝CH₂基。