用于显示影像之系统及低温多晶矽之雷射退火方法

摘要

一种低温多晶矽之退火方法，用于一玻璃基板，其中玻璃基板上系形成有一第一金属层及一矽膜层，而退火方法包含下列步骤：将一波长大于400奈米之雷射光束照射该矽膜层，其中矽膜层吸收雷射光束之一部分而被加热熔化，且雷射光束之另一部份系穿透矽膜层并从第一金属层反射至矽膜层，俾使矽膜层吸收反射之雷射光束而被再加热而结晶；以及于雷射光束照射后静置矽膜层，俾使矽膜层之温度下降至室温。