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发明名称
自走车走道及其制造方法
摘要
一种自走车走道系包括一基底层、一平板层及一强化层。基底层具有一表面;平板层系具有至少一平板及至少一高程调整单元,平板系铺设于基底层之表面之上,而高程调整单元系分别与平板层及基底层之表面接触;强化层系位于基底层与平板层之间。本发明亦提供一种自走车走道之制造方法,其系包括以下步骤:首先系形成一基底层;接着系于基底层之上铺设一平板层;接着调整平板层之高程;最后系将一填充物填充至基底层与平板层之间,并将填充物固化以形成一强化层。
申请公布号
TW200742782
申请公布日期
2007.11.16
申请号
TW095115784
申请日期
2006.05.03
申请人
奇美电子股份有限公司
发明人
吴懋宏
分类号
E01C9/00(2006.01);G05D1/02(2006.01)
主分类号
E01C9/00(2006.01)
代理机构
代理人
主权项
地址
台南县新市乡台南科学工业园区奇业路1号
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