| 发明名称 | 制造薄膜图案层的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种制造薄膜图案层的方法，其包括以下步骤：提供一基板，并采用光阻材料以光阻涂布、曝光、显影方式形成若干挡墙，该若干挡墙间形成若干收容空间；利用等离子装置清洗该基板表面；利用喷墨装置将墨水注入该若干收容空间中；固化该墨水形成薄膜图案层。该方法利用等离子装置清洗该基板表面这一过程，能够去除残留在相邻挡墙之间的光阻，通过喷墨法将墨水注入该挡墙之间，因为没有残留光阻的存在，故，墨水在该处附着较佳，不易形成漏光。 | ||
| 申请公布号 | CN101071273A | 申请公布日期 | 2007.11.14 |
| 申请号 | CN200610080401.8 | 申请日期 | 2006.05.09 |
| 申请人 | 虹创科技股份有限公司 | 发明人 | 周景瑜 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/16(2006.01);G03F7/26(2006.01);G02B5/23(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人 | 周春发 |
| 主权项 | 1.一种制造薄膜图案层的方法，其包括以下步骤：提供一基板，并采用光阻材料以光阻涂布、曝光、显影方式在基板上形成若干挡墙，该若干挡墙间形成若干收容空间；利用等离子装置清洗该基板表面；利用喷墨装置将墨水注入该若干收容空间中；固化该墨水形成薄膜图案层。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24－1号4楼 | ||