厚膜光阻膜之形成方法及光阻图型之形成方法

摘要

一种厚膜光阻膜之形成方法，其为于支撑体上形成膜厚1~15μm之厚膜光阻膜之形成方法，其为于上述支撑体上，使光阻组成物于滴落中，或滴落结束后，具有使该支撑体回转，并提高该回转数之加速步骤，与使经由上述加速步骤提高之迥转数下降的减速步骤，与维持经由上述减速步骤下降之回转数的维持低速回转之步骤。