| 摘要 |
本发明系提供一种含有具有特定结构的多酚化合物及溶剂之抗反射膜形成用组成物。该多酚化合物系藉由使至少1种碳数6~20的芳香族醛与含有1~3个酚性羟基之碳数6~15的化合物缩合反应而得到，分子量为400~2000、分子量分布Mw/Mn为1~1.05、及玻璃转移温度为110℃以上。使用该组成物在基板上形成的抗反射膜，能够吸收来自基板的反射光、提升在该抗反射膜上所形成之光阻图案的形成性。因为该抗反射膜系低昇华性、高乾蚀刻耐性，所以能够减少光阻图案线边缘粗糙度。又，因为在硷显像液中可溶，除去该抗反射膜不需要特别的乾蚀刻处理。 |
