| 主权项 |
1.一种以图案来图案化来自光源的光与将图案化 的光投影至一基材表面的微影系统,包含: 一照明系统,供给光; 一图案化装置,依据该图案来图案化该光; 一投影系统,将图案化光投影至该表面的目标部份 ;及 一具有第一及第二四分之一波片的可变偏振元件, 位在照明系统与该表面之间;及 一旋转装置,架构以在该第一与第二四分之一波片 间建立一相对旋转运动, 其中该可变偏振元件选择地操作于至少两模式中 之一模式中,该等模式系由一第一线性偏振方向、 一正交该第一线性偏振方向的第二线性偏振方向 、及一圆形偏振的组别中选出及其中该旋转装置 根据该图案之特性,将该第一与第二四分之一波片 定位成为一预定关系。 2.如申请专利范围第1项所述之微影系统,其中该可 变偏振元件选择地操作于至少三个偏振模式中。 3.如申请专利范围第2项所述之微影系统,其中该等 至少三个偏振模式包含水平偏振、垂直偏振、及 圆形偏振。 4.如申请专利范围第1项所述之微影系统,更包含一 马达,可驱动连接至该第一及第二四分之一波片的 至少一波片。 5.如申请专利范围第1项所述之微影系统,其中该旋 转装置包含一定位装置,其选择地定位第一及第二 四分之一波片于至少三个位置中之一位置,使得第 一及第二四分之一波片之组合依据该至少三个位 置之一选定位置,操作为非延滞器、四分之一波延 滞器、或半波延滞器。 6.如申请专利范围第1项所述之微影系统,其中该旋 转装置包含一电机致动装置。 7.如申请专利范围第1项所述之微影系统,其中该旋 转装置将第一及第二四分之一波片定位成为一预 定关系,以建立相符于该图案指向的偏振。 8.如申请专利范围第1项所述之微影系统,其中该可 变偏振元件的模式系基于该图案的指向加以选择 。 9.如申请专利范围第8项所述之微影系统,其中该可 变偏振元件在当该图案主要沿着第一偏振方向指 向时,产生第一偏振方向,并且,当该图案主要沿着 第二偏振方向指向时,产生与第一偏振方向不同的 第二偏振方向。 10.如申请专利范围第9项所述之微影系统,其中该 第一偏振方向为正交该第二偏振方向。 11一种操作一微影系统的方法,包含步骤: 基于一图案,图案化辐射束; 将图案化束投影至基材的目标部份;及 根据该图案之特性,将一可变偏振元件的第一与第 二四分之一波片彼此相对定位,以偏振该束,其中 该可变偏振元件系可操作于至少两模式之一模式, 该至少两模式系由一第一线性偏振方向、一正交 于第一线性偏振方向的第二线性偏振方向、及圆 形偏振的组别中选出。 12.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该偏振 步骤中,该可变偏振元件可选择地操作于至少三偏 振模式中。 13.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该等至 少三模式包含水平偏振、垂直偏振及圆形偏振。 14.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该相对 定位该等第一及第二四分之一波片的步骤包含,以 一电机装置驱动该第一四分之一波片的步骤,以相 对于该第二四分之一波片,选择地移动该第一四分 之一波片。 15.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该相对 定位该等第一及第二四分之一波片的步骤更包含 选择地定位该等第一及第二四分之一波片于至少 三位置之一位置,使得该等第一及第二波片的组合 ,取决于该等三位置之一,而操作为一非延滞器、 四分之一波延滞器、或半波延滞器。 16.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该想要 相对位置系被选择,以建立符合该图案指向的偏极 化。 17.如申请专利范围第11项所述之方法,更包含基于 该图案的指向,而选择该可变偏振元件的模式之步 骤。 18.如申请专利范围第17项所述之方法,其中在该选 择该模式的步骤中,当该图案主要沿着该第一偏振 方向指向时,选择第一偏振方向,及当该图案主要 沿着第二偏振方向指向时,选择不同于该第一偏振 方向的一第二偏振方向。 19.如申请专利范围第18项所述之方法,其中该第一 偏振方向系正交于该第二偏振方向。 图式简单说明: 第1A图为一光学路径图,显示具有产生非平行电场 的绕射角配置; 第1B图为一光学路径图,显示具有相对于第1A图配 置产生改良对比的平行电场的配置; 第2图显示用于本发明实施例中之两个相对可旋转 四分之一波片的配置; 第3图为本发明实施例的俯视图,其中微影光学单 元在其最后机台中,设有第2图之四分之一波片; 第4图为一流程图,显示用以选择地改变于微影机 中之光学输出的偏振; |
