| 发明名称 | 彩色滤光片的蚀刻方法与其制作方法 | ||
| 摘要 | 一种彩色滤光片的蚀刻方法，此方法是先提供基板，此基板上已形成有多层式滤光片材料层。之后，将基板置入蚀刻反应室中，通入含有物理反应气体与化学反应气体的混合气体，以进行干式蚀刻工艺，将多层式滤光片材料层图案化。 | ||
| 申请公布号 | CN101051095A | 申请公布日期 | 2007.10.10 |
| 申请号 | CN200610074026.6 | 申请日期 | 2006.04.04 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 吴沂庭;余华伟 |
| 分类号 | G02B5/23(2006.01) | 主分类号 | G02B5/23(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种彩色滤光片的蚀刻方法，包括：提供一基板，该基板上已形成有一多层式滤光片材料层；以及将该基板置入一蚀刻反应室中，通入一混合气体以进行一干式蚀刻工艺，将该多层式滤光片材料层图案化，该混合气体包括一物理反应气体与一化学反应气体。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||